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沉淀二氧化硅的蒸发研究

双击自动滚屏 发布时间:2012/12/27 阅读:2145次 【字体:

    沉淀二氧化硅(白炭黑)表面的隔离羟基和相邻羟基,在存放过程中,接触水蒸气就会改变浓度。其中隔离羟基不变化,说明在生产过程中生成的隔离羟基是稳定的,而相邻羟基会逐渐增多,个现象也可以用杨格的机理来解释,即在高温下形成了某些含有'内应力'的硅—氧—硅键,它可吸水打开而形成更多的相邻羟基。

  X—射线衍射也证明了二氧化硅(白炭黑),在常温~700℃温范围内,加热不会改变其无定形结构,大雨700℃时开始出现向结晶结构变化,至800℃就完全变为低温型方英石的结晶。

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